高能同步輻射光源沙盤(pán)模型
高能同步輻射光源的研究領(lǐng)域非常廣泛，涵蓋了物理、化學(xué)化工、材料科學(xué)、能源、環(huán)境、考古、納米、生命科學(xué)、醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域，并且在不斷擴(kuò)展。
高能同步輻射光源沙盤(pán)模型
高能同步輻射裝置產(chǎn)生的高能量、高強(qiáng)度的光源，能夠使北京在生物醫(yī)藥、電子器件、航空工業(yè)材料等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域具備技術(shù)優(yōu)勢(shì)。
高能同步輻射光源沙盤(pán)模型
高能同步輻射光源(High Energy Photon Source，縮寫(xiě)HEPS)將建設(shè)能量為5~6GeV，束流發(fā)射度為0.05~0.1nm·rad的第三代同步輻射光源，高于世界上目前正在運(yùn)行和建設(shè)的同步輻射裝置。
